这些技术，就像他所说，都只是一个过渡。但并不是为了让陈中等人磨合团队，堆集经历。之以是不拿出更好的东西来，是因为没有需求。

陈中等人都一齐点头。

用这类制备法，出产出来的铁氧化体完整能够作为优良的磁性子料，应用于制造高密度大容量软盘。而其代价却非常昂贵，仅和低密度软盘划一本钱。高密度、低本钱，目前市道上所出品的统统软盘都不是我们的敌手！”

“好的。”

这也是他为其他公司提早挖的坑。

如此说来，一种高品格、低本钱的磁性子料不消他们再多操心了。不晓得西部计算机公司研发的介质制备技术，是否也会给他们一样欣喜？

高新科技更新换代极快，他没有需求一下子就将最好的东西拿出来。

如果真的像郭逸铭说的如许，磁性子料的制备本钱和低容量磁盘相称，但实际品格却相称于高密度盘，那另有哪家公司能够和西部计算机公司合作？

详细的磁介质加工工艺，有涂敷式、真空溅射式、离子渗入式，目前涂敷式磁性子料制备是首要制作体例，在大容量数据磁盘的制造中，则凡是采取真空溅射式工艺。

这是一种新型制备体例，先向溶液中投放铁氧化物和M2+水溶液，搅拌后再放入一种特别的碱溶液，从而在溶液中间构成包含中间沉淀物的胶质悬浮液。取中间悬浮液，加热到必然温度，再吹入纯洁氛围，使之产生氧化反应，当沉淀物消逝，高纯度铁氧化体便转化完成。

化学共沉法通过增加催化剂，使之反应中和沉淀，制备出来的氧化铁颗粒非常细致，其直径小于0.5微米，是制造大容量高密度软盘的优良质料。但这类体例净化严峻，并且分离困难，工序更加繁复，成秘闻当高。

这方面，公司已经有呼应的技术储备……”

磁性子料尝试室设备到位今后，便在郭逸铭召开下，就在尝试室内停止了事情集会。

“磁头我们相沿现在惯用的仙台斯特合金，作为读写质料。但在制备上，采取Ampex公司在1970年发明的各向同性磁头。这类薄膜型磁头事情间隙小、磁场漫衍陡、磁迹宽度窄，能够很好地进步事情速率和读取精度。Ampex公司在发明了这类磁头今后，一向没有被其他公司采取，现在专利已见效，我们能够不再考虑专利题目……

真空溅射，是在真空环境下，通过离子喷溅的体例来实现磁性子料附着于介质大要。这类体例制造出来的磁记录介质，大要涂层均匀，颗粒纤细，并且因为是冷温，介质不会呈现变形，非常合用于大容量数据存储。

不过将来，公司仍然将以溅射法为首要研讨工具，电镀法只是作为一个过渡技术……”